金属氧化膜电阻的定义及参数

发布时间:2017-07-13 丨 阅读次数:

        金属氧化膜一般采用真空蒸发技术制作。真空蒸发技术也就是说在真空中加热合金使合金蒸发，在磁棒上覆盖着一层导电的金属氧化膜。金属氧化膜的阻值不仅可以通过控制金属氧化膜的厚度和材料来决定还可以通过刻槽的方式来改变电阻的大小。所以金属氧化膜电阻可以做成性能较好的、阻值范围大的电阻器。金属氧化膜有耐温、抗氧化、超负载稳定好、热稳定好

的特性。

       金属氧化膜电阻的常用规格范围：
阻值誤差為 ±2%、±5%。
工作温度在：-55℃ ~ +155℃间
阻值范围在:0RΩ-1MΩ间
工作电压在：200v~500v间
功率在1/4W到5WS
温度系数：±350ppm℃
封装尺寸：6.2mmX2.4mm~16mm.8X6mm、